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镀镍工艺
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B1000滚镀光亮镍工艺
工艺特质:

1、适合滚、挂镀。
2、内应力低,延展性好,颜色洁白,镀液稳定

B7000氨基磺酸型镍电镀工艺
工艺特质:

1、高速氨基磺酸型镍电镀工艺。
2、镍镀层应力小,延展性好,极适宜作为贵金属及普通金属镀层的底层。

100号镀光亮镍工艺
工艺特质:

1、整平性高,镀层洁白镜亮,延展性好。
2、易套铬。

LCD ADDITIVES走位除杂水
工艺特质:

1、去除因锌杂质或铜杂质污染造成的镀层发黑现象。
2、可处理镀液中含锌,铜分别达300ppm及75ppm。

B8000耐高温镍
工艺特质:

1、是一种氨基磺酸型/硫酸性镀镍工艺
2、半光亮镍镀层具有极佳的延展性,极适宜作为电子镀锡层的底层,能有效防止锡镀层经热处理之后的变色,并保持其优异的可焊性。

85高整平超低应力的半光亮镍工艺
工艺特质:

1.添加剂不含香豆素及醛类,分解产物少。
2.整平性极佳,柔韧性好,应力极低。

B2000滚镀光亮镍工艺
工艺特质:

1、高效能的滚镀镍光亮剂。
2、出光速度快,整平性高,镀层洁白、镜亮。

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